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MASTER NANOTECH
Parcours international Nanotech
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> Formation

Lithographie avancée - 4PMTADL2

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  • Volumes horaires

    • CM : 6.0
    • TD : 6.0
    • TP : 0
    • Projet : 0
    • Stage : 0
    Crédits ECTS : 2.0

Objectifs

Contact Bertrand LE GRATIET

Contenu

1.Optical lithography:
1.1. Description of a standard scanner
1.2. Phenomenological description of image formation
1.3. Lithography criteria: Resolution, depth of focus, line edge roughness, ..
2. Trends in optical lithography: Resolution Enhancement Techniques:
2.1. Immersion Lithography
2.2. Double patterning
2.3. Optical Proximity effects Correction (OPC)
2.4. Advanced masks
3. Next Generation lithography:
3.1. Extreme UltraViolet (EUV)
3.2. Imprint
3.3. Directed Self Assembly
3.4. Direct electron beam writing
4. Focus on e-beam lithography technique (by Jonathan Pradelles, CEA-Leti)
4.1. e-beam writer description
4.2. Physics of electron/matter interaction
4.3. OPC in e-beam lithography



Prérequis

Contrôles des connaissances

Semestre 8 - L'examen existe uniquement en anglais 



Informations complémentaires

Semestre 8 - Le cours est donné uniquement en anglais EN

Cursus ingénieur->NANOTECH->Semestre 8

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mise à jour le 23 janvier 2019

Grenoble INP Institut d'ingénierie Univ. Grenoble Alpes