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MASTER NANOTECH
Parcours international Nanotech
MASTER NANOTECH
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> Formation

Lithographie avancée

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  • Volumes horaires

    • CM : 12
    Crédits ECTS : 1
  • Responsables :

    Jumana Boussey

Contenu

Courses

This course will give an overview of the different up to date lithography technologies used in research and industrial applications:
- optical lithography (introduction, immersion lithography, masks, illuminations, optical proximity effects...)
- electron beam lithography (electron-solid interaction, electron optics, proximity effects...)
- nano imprint lithography (polymers properties, process issues...)
- resist processes (positive and negative resists, chemistry, full process...)


Exercises and laboratories

None

Contrôles des connaissances

Marking mode : written

Calendrier

fevrier - mai

Informations complémentaires

Teaching type
lecture

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Necessary conditions : none
Preparation for : none

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mise à jour le 23 janvier 2019

Grenoble INP Institut d'ingénierie Univ. Grenoble Alpes